SIA 赞扬 CHIPS R&D 旗舰设施的选择

华盛顿 — 2024 年 11 月 1 日 — 半导体行业协会 （SIA） 今天发布了 SIA 总裁兼首席执行官 John Neuffer 的以下声明，赞扬了美国国家半导体技术中心 （NSTC） 设施的前两个 CHIPS 入选。第一个设施将专注于极紫外 （EUV） 光刻研究，并将位于 NY CREATES 位于纽约的奥尔巴尼纳米技术综合体内。第二个设施（加利福尼亚州桑尼维尔）将作为 NSTC 的行政总部，并托管设计支持网关。这些计划将共同推动美国半导体行业的半导体设计、研究、劳动力发展、投资和合作。

“本周的公告标志着两党《芯片和科学法案》中颁布的关键研发计划的实施取得了激动人心的里程碑。EUV 光刻研究是对美国处于领先地位的投资。而且，奥尔巴尼设施将使这种非凡工具的访问民主化，并使 NSTC 研究能够在明年开始，从第一天起就推动美国芯片创新的使命。

“Natcast 位于加利福尼亚州桑尼维尔的工厂将在硅谷中心建立一个新的中心，用于芯片设计、电子设计自动化 （EDA）、芯片和系统架构以及硬件安全方面的下一代研发。此外，该设施将推进 NSTC 的核心计划，包括 Workforce Center of Excellence——打造我们行业最重要的资产：创新和熟练的劳动力。我们祝贺商务部和 Natcast 启动了这些有影响力的计划，并赞扬他们为继续推动美国在芯片领域的领导地位而做出的辛勤努力。

这些资源将提供给 NSTC 成员和研究人员。Natcast 已开放 NSTC 会员资格，并敦促半导体公司、大学、非营利组织和研究机构、国家实验室和政府机构参与塑造美国半导体研发领导的未来。

声明： 本网站原创内容，如需转载，请注明出处；本网站转载内容（文章、图片、视频等资料）的版权归原网站所有。如我们转载或使用了您的文章或图片等资料的，未能及时和您沟通确认的，请第一时间通知我们，以便我们第一时间采取相应措施，避免给双方造成不必要的经济损失或其他侵权责任。如您未通知我们，我们有权利免于承担任何责任。 我们的联系邮箱：news@cecb2b.com。